日立ハイテクノロジーズ

2017年01月30日

日立ハイテクノロジーズがプラズマを用いた原子層堆積装置を共同開発

日立ハイテクノロジーズは1月30日、フィンランド・ピコサン社と、プラズマを利用した原子層堆積装置の共同開発を発表した。同装置に搭載予定の共同開発によるマイクロ波ECRプラズマを用いたALD技術は、半導体デバイス製造時の成膜工程にて、微細化や三次元構造への対応を実現し、革新をもたらすものとなっている。